[发明专利]使用等离子体炬处理粒子的方法无效
| 申请号： | 200680020524.0 | 申请日： | 2006-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN101193987A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | P·巴贾德;U·L·斯塔德勒;M·马马克;P·巴格农;O·雷克 | 申请（专利权）人： | 西巴特殊化学品控股有限公司 |
| 主分类号： | C09C3/04 | 分类号： | C09C3/04;C09C1/00;C09C1/62;C09C1/36;C09C1/22;C09C1/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吕彩霞;韦欣华 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及一种使用等离子体炬处理粒子的方法以及涉及通过所述方法得到的粒子。该处理粒子的方法包括如下步骤：(A)提供粒子，其包含(a)基质，和(b)在所述基质上的至少一个层；或者粒子，特别是小片状粒子；(B)将所述的粒子夹带到用于传输到等离子体炬的气流中；(C)在所述的气流中产生等离子体来加热所述粒子的外表面；(D)使得所述的粒子冷却；和(E)收集所述的粒子。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 等离子体 处理 粒子 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理粒子的方法，其包括以下步骤：(A)提供粒子，该粒子包含(a)基质，和(b)在所述基质上的至少一个层；或者粒子，特别是小片状粒子；(B)将所述的粒子夹带到用于传输到等离子体炬的气流中；(C)在所述的气流中产生等离子体来加热所述粒子的外表面；(D)使得所述的粒子冷却；和(E)收集所述的粒子。
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