[发明专利]使用透明基板制造多晶硅膜的方法和装置无效
| 申请号： | 200680010952.5 | 申请日： | 2006-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN101156247A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 安范模 | 申请（专利权）人： | 波音特工程股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 程大军 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种使用透明基板制造多晶硅膜的方法和装置。所述方法包含：在所述透明基板的表面上形成光吸收层；并使用快速热处理(RTP)光源的辐射加热所述光吸收层，同时沉积所述多晶硅膜于该光吸收层上。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 透明 制造 多晶 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种使用透明基板制造多晶硅膜的方法，所述方法包括：在所述透明基板的表面上形成光吸收层；并使用快速热处理(RTP)光源的辐射加热所述光吸收层，同时沉积所述多晶硅膜于该光吸收层上。
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