[发明专利]1,2-反式糖苷化合物的制造方法无效

专利信息
申请号: 200680003754.6 申请日: 2006-02-20
公开(公告)号: CN101111507A 公开(公告)日: 2008-01-23
发明(设计)人: 山子茂 申请(专利权)人: 大塚化学株式会社
主分类号: C07H15/04 分类号: C07H15/04;C07H15/18;C07H15/207;C07H17/00;C07H17/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王健
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种相对于2位羟基选择性地制造反式构型的糖苷化合物的方法,其由(a)呋喃糖化合物或吡喃糖化合物和(b)醇化合物得到糖苷化合物,其特征在于,使用2位羟基用基团A保护的、可以具有取代基的呋喃糖化合物或可以具有取代基的吡喃糖化合物,(A)[R2及R3表示相同或不同的碳数1~4的烷基、具有取代基的芳基,或者R2及R3相互键合表示碳数2~4的亚烷基(该亚烷基可以用碳数1~4的烷基取代,也可以夹有亚苯基)。m及n表示0或1的整数]。
搜索关键词: 反式 糖苷 化合物 制造 方法
【主权项】:
1.一种相对于2位羟基选择性地制造反式构型的糖苷化合物的方法,其是由(a)呋喃糖化合物或吡喃糖化合物和(b)醇化合物得到糖苷化合物的方法,其特征在于,使用2位羟基用基团A保护的、可以具有取代基的呋喃糖化合物或可以具有取代基的吡喃糖化合物,其中,R2及R3表示相同或不同的碳数1~4的烷基、可以具有取代基的芳基,或者R2及R3相互键合表示碳数2~4的亚烷基(该亚烷基可以用碳数1~4的烷基取代,也可以夹有亚苯基),m及n表示0或1的整数。
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