[发明专利]生产具有纳米多层的光学应用的元件的方法以及按照该方法生产的元件

摘要

本发明涉及制备具有纳米多层的用于光学应用尤其是X-射线光学系统的元件的方法，其中元件优选是单晶硅，纳米多层由使用溶胶-凝胶-涂布连续施涂到其上的单层来制备。本发明的目的是提供成本有利的方法，使用该方法可以只由一种材料，特别是由氧化铝，制备具有在多层中可预定的密度调整的纳米多层。该目的通过以下来解决，其中多层通过具有每种情况下最低的可能层厚的相同材料的多个连续实现的层结构来实现，其中连续的每个单层通过元件在溶胶-凝胶-池中短时间浸渍或将溶胶-凝胶-溶液喷涂于元件上，随后在预定温度下在空气中干燥或退火处理来制备。

主权项

1.制备具有纳米多层的用于光学应用如具有硬和软x射线的x-射线-光学系统或用于真空-UV-辐射以及用于x射线荧光分析的分析器-多层-光栅以及作为绝缘滤光器用于在不同波长范围辐射的元件的方法，其中该元件是单晶硅，其上纳米多层通过溶胶-凝胶-涂布方法连续施涂的单层而制备，其特征为，多层通过具有每种情况下最低的可能层厚的相同材料的多个连续实现的层结构来实现，其中连续的每个单层通过元件在溶胶-凝胶-池中短时间浸渍或将溶胶-凝胶-溶液喷涂于元件上，随后在预定温度下在空气中通过干燥或退火过程来制备。