[发明专利]用于防止涡旋式压缩机中产生真空的装置有效
申请号: | 200680001600.3 | 申请日: | 2006-03-31 |
公开(公告)号: | CN101142409A | 公开(公告)日: | 2008-03-12 |
发明(设计)人: | 周永世;南泰熙;陈弘均;朱伦秀 | 申请(专利权)人: | LG电子株式会社 |
主分类号: | F04C18/02 | 分类号: | F04C18/02;F04C18/28;F04C18/26 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 刘建功;车文 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种用于防止涡旋式压缩机中产生真空的装置,其包括:具有旁通孔(135)的固定涡旋(130),壳体(110)的吸入腔室(51)通过该旁通孔而连接于壳体(110)的排出腔室(52);具有内部通道的阀块(151),固定涡旋(130)的旁通孔(135)通过该内部通道而连接于壳体的排出腔室(52),且该阀块固定地安装在固定涡旋(130)上;和阀件(152),其被布置在固定涡旋(130)的旁通孔(152)和阀块(151)的内部通道之间,用以在旁通孔(135)和内部通道之间打开和关闭。由于该装置被装配在固定涡旋(130)的外围,从而防止了固定涡旋(130)的加工错误,由此使加工成本得以减少。同时,由于在制冷剂通道的加工过程中所产生的外物不会存留在阀孔(155a)中,故可防止阀件(152)的不正常操作,提高了生产力,且降低了制造成本。 | ||
搜索关键词: | 用于 防止 涡旋式 压缩机 产生 真空 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于防止涡旋式压缩机中产生真空的装置,其包括:具有内部封闭空间的壳体,该空间被分成低压吸入腔室和高压排出腔室;固定涡旋,其固定安装在所述壳体的吸入腔室和排出腔室之间,以形成压缩腔室,该压缩腔室通过与绕动涡旋结合在一起而连续运动,该固定涡旋具有出口和旁通孔,在压缩腔室中被压缩的制冷剂通过该出口而被排到排出腔室,而壳体的吸入腔室通过该旁通孔而连接于排出腔室;具有内部通道的阀块,其固定地安装于所述固定涡旋,所述固定涡旋的旁通孔通过该内部通道而连接于壳体的排出腔室;和阀件,其被布置在固定涡旋的旁通孔和阀块的内部通道之间,用以当压缩腔室的压力降至某一压力以下时,在旁通孔和内部通道之间打开,从而将排出腔室的制冷剂供入吸入腔室,并且当压缩腔室保持一定压力时,在旁通孔和内部通道之间关闭,以防止排出腔室的制冷剂回流到吸入腔室。
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