[发明专利]卷取式真空成膜装置有效
申请号: | 200680000343.1 | 申请日: | 2006-02-14 |
公开(公告)号: | CN1969057A | 公开(公告)日: | 2007-05-23 |
发明(设计)人: | 林信博;横井伸;多田勋;中塚笃 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 何腾云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种卷取式真空成膜装置,该卷取式真空成膜装置能够抑制绝缘性的原料薄膜的热变形,以高速成膜金属膜,谋求提高生产性,进而,能够提高薄膜的除电效果。其中,具有电子束照射器(21)、辅助辊(18)、直流偏压电源(22)、除电单元(23),该电子束照射器(21)被配置在卷放辊(13)和蒸发源(16)之间,向原料薄膜(12)照射荷电粒子;该辅助辊(18)被配置在冷却用筒式辊(14)和卷取辊(15)之间,并与原料薄膜(12)的成膜面接触,对该原料薄膜(12)的行进进行引导;该直流偏压电源(22)对筒式辊(14)和辅助辊(18)之间施加直流电压;该除电单元(23)配置在筒式辊(14)和卷取辊(15)之间,对原料薄膜(12)进行除电,该除电单元(23)由一方的电极接地的直流二极放电型等离子发生源构成。 | ||
搜索关键词: | 卷取 真空 装置 | ||
【主权项】:
1.一种卷取式真空成膜装置,该装置具有真空腔、卷放部、卷取部、冷却用辊、成膜构件,该卷放部配置在该真空腔的内部,连续地放出绝缘性的原料薄膜;该卷取部卷取从该卷放部放出的原料薄膜;该冷却用辊配置在上述卷放部和上述卷取部之间,与上述原料薄膜紧密接触,对该薄膜进行冷却;该成膜构件与上述冷却用辊相对配置,在上述原料薄膜上成膜金属膜,其特征在于,具有:配置在上述冷却用辊和上述卷取部之间,并与上述原料薄膜的成膜面接触,对该原料薄膜的行进进行引导的辅助辊;对上述冷却用辊和上述辅助辊之间施加直流电压的电压施加构件;配置在上述冷却用辊和上述卷取部之间,对上述原料薄膜进行除电的除电构件,上述除电构件是一方的电极接地的直流二极放电型等离子发生源。
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