[实用新型]RH炉外精炼设备浅圆形台底的真空槽无效

专利信息
申请号: 200620113202.8 申请日: 2006-04-28
公开(公告)号: CN200961142Y 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: 金弘熙 申请(专利权)人: 金弘熙;郭晓庆;袁林;马新一;何正山;任彤
主分类号: C21C7/10 分类号: C21C7/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201900上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种RH炉外精炼设备浅圆形台底的真空槽,属于冶金技术领域,将RH真空槽由球形底改为浅圆台底,以降低真空槽底部耐材厚度;在浅圆台底内侧适当焊接加强筋以确保真空槽的强度。本实用新型能确保钢水循环速度不变,使钢水在真空槽中停留时间延长25~40%,能大大提高处理效果,缩短RH真空处理时间的技术。
搜索关键词: rh 精炼 设备 圆形 真空
【主权项】:
1、一种RH炉外精炼设备浅圆形台底的真空槽,该真空槽(10)上部为真空,底部带有浸渍管(2),浸渍管(2)外带有不定型的耐材,插入到钢包(3)内的钢水中,其特征在于:真空槽(1)的底部为平面形的浅圆底台(12),该浅圆底台(12)的内部带有加强筋(11)。
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