[实用新型]一种清除废硅片杂质的喷砂设备无效
| 申请号： | 200620103374.7 | 申请日： | 2006-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN2915374Y | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | 吴云才 | 申请（专利权）人： | 浙江昱辉阳光能源有限公司 |
| 主分类号： | B24C3/12 | 分类号： | B24C3/12;B24C3/02;B24C1/04;B24C9/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 | 代理人： | 徐关寿 |
| 地址： | 314117浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种清除废硅片杂质的喷砂设备，包括喷砂室、设于喷砂室内由电机驱动的传动喷枪架和砂料收集装置、传送带，传送带由电机驱动，并穿过喷砂室，传送带上搁置若干网孔料盘，喷砂室内的传送带下方处设真空抽气装置，喷枪架传动方向与传送带运动方向垂直。本实用新型结构简单，废硅片受真空抽气紧贴网孔料盘运动，经喷枪喷砂清理，使硅片表层的杂质予以清除，经喷砂处理后的废硅片，可重复利用，为解决硅料资源紧缺作出了贡献。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清除 硅片 杂质 喷砂 设备 | ||
【主权项】：
1、一种清除废硅片杂质的喷砂设备，包括喷砂室、设于喷砂室内由电机驱动的传动喷枪架和砂料收集装置、传送带，传送带由电机驱动，并穿过喷砂室，其特征在于：传送带上搁置若干网孔料盘，喷砂室内的传送带下方处设真空抽气装置，喷枪架传动方向与传送带运动方向垂直。
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