[实用新型]金属防磁盖改良结构无效

专利信息
申请号: 200620050557.7 申请日: 2006-04-07
公开(公告)号: CN2891595Y 公开(公告)日: 2007-04-18
发明(设计)人: 刘启泰 申请(专利权)人: 刘启泰
主分类号: H05K5/03 分类号: H05K5/03;H05K9/00
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 代理人: 何为
地址: 台湾省桃园县龟山*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型公开了一种金属防磁盖改良结构,其至少包括一屏蔽框部和一上盖,该屏蔽框部周缘设有垂直弯折的折边,该屏蔽框部以该折边结合于电路板上预设位置;该上盖经冲压而凸起于该屏蔽框部顶侧中央部位,于该上盖周缘与屏蔽框部衔接部位设有一冲压折线,且该冲压折线由复数相互间隔的断裂部及较细薄的衔接部组合而成。本实用新型能使上盖与屏遮体结合稳定,且又易于拆卸分离,可有效增进加工效率及质量。
搜索关键词: 金属 防磁 改良 结构
【主权项】:
1.一种金属防磁盖改良结构,其至少包括一屏蔽框部和一上盖,其特征在于:该屏蔽框部周缘设有垂直弯折的折边,该屏蔽框部以该折边结合于电路板上预设位置;该上盖经冲压而凸起于该屏蔽框部顶侧中央部位,于该上盖周缘与屏蔽框部衔接部位设有一冲压折线,且该冲压折线由复数相互间隔的断裂部及较细薄的衔接部组合而成。
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