[实用新型]集成电路堆栈构造无效

专利信息
申请号: 200620004555.4 申请日: 2006-03-08
公开(公告)号: CN2914329Y 公开(公告)日: 2007-06-20
发明(设计)人: 辛宗宪 申请(专利权)人: 胜开科技股份有限公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L23/48;H01L23/31
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型集成电路堆栈构造,包括一基板,设有一上表面及一下表面,该上表面形成有多数个第一电极,该下表面形成有多数个第二电极连接该对应的第一电极;一下层集成电路,设置于该基板的上表面,其上形成有多数个焊垫;多数条导线,其是电连接该芯片的焊垫至该基板的第一电极;一第一接着剂,涂设于该下层集成电路上,使其硬化,形成同样高度的圆点;一第二接着剂,涂布于该下层集成电路上,位于该第一接着剂四周;一上层集成电路,设置于该下层集成电路上,由该第一接着剂支撑,粘着于该第二接着剂上;多数条导线,电连接该上层集成电路至基板的第一电极电;及封胶层,是用以包覆该上、下层集成电路及导线。
搜索关键词: 集成电路 堆栈 构造
【主权项】:
1.一种集成电路堆栈构造,其特征在于包括:一基板,其设有一上表面及一下表面,该上表面形成有多数个第一电极,该下表面形成有多数个第二电极连接该对应的第一电极;一下层集成电路,是设置于该基板的上表面,其上形成有感测区及多数个焊垫;多数条导线,其是电连接该芯片的焊垫至该基板的第一电极;一第一接着剂,是涂设于该下层集成电路上,并使其硬化,而形成同样高度的圆点;一第二接着剂,是涂布于该下层集成电路上,并位于该第一接着剂四周;一上层集成电路,是设置于该下层集成电路上,并由该第一接着剂支撑,且粘着于该第二接着剂上;多数条导线,是电连接该上层集成电路至基板的第一电极上;及封胶层,其是用以包覆该上、下层集成电路及导线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于胜开科技股份有限公司,未经胜开科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200620004555.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top