[发明专利]电光装置及其制造方法以及电子设备无效
| 申请号： | 200610171446.6 | 申请日： | 2006-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN1991937A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 森胁稔 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 李峥;于静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在液晶等电光装置中，耐光性优异，能够进行高品质的显示。液晶装置在TFT阵列基板10上具备：相互交叉地延伸的数据线6a和扫描线3a；在TFT阵列基板10上平面看配置在与数据线6a和扫描线3a对应地规定的每个像素中的像素电极9a；与像素电极9a电连接的TFT30。进而，具备在TFT阵列基板10上平面看配置在包含与TFT30的沟道区域1a’相对的区域的区域并且配置在与TFT30的半导体膜不同的层、包含无定形WSi膜320而构成的电容线300。 | ||
| 搜索关键词： | 电光 装置 及其 制造 方法 以及 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种电光装置，其特征在于，在基板上具备：相互交叉地延伸的数据线和扫描线；在上述基板上平面看配置在与上述数据线和扫描线对应地规定的每个像素中的像素电极；与上述像素电极电连接的薄膜晶体管；以及至少一个无定形布线，其在上述基板上平面看配置在包含与上述薄膜晶体管的沟道区域相对的区域的区域并且配置在与上述薄膜晶体管的半导体膜不同的层，且包含无定形膜而构成。
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