[发明专利]一种与大致平面状的基片一起使用的双面成像系统和方法无效
申请号: | 200610170137.7 | 申请日: | 2002-12-27 |
公开(公告)号: | CN101024451A | 公开(公告)日: | 2007-08-29 |
发明(设计)人: | 拉阿南·阿丁;尤沃尔·亚索尔 | 申请(专利权)人: | 奥博泰克有限公司;科尔弗洛有限公司 |
主分类号: | B65G51/03 | 分类号: | B65G51/03;G01N21/86;H01L21/677;H01L21/66 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王景刚;王冉 |
地址: | 以色列*** | 国省代码: | 以色列;IL |
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摘要: | 一种与大致平面状的基片一起使用的双面成像系统,包括:气流传送装置,该气流传送装置用于以悬浮状态将大致平面状的基片至少传送到一个成像位置,所述平面状基片选自基片组:印刷线路板、平板显示器和互连装置基片;图像获取装置,该图像获取装置位于所述成像位置,用于在所述平面状基片由所述气流传送装置悬浮时使所述平面状基片双面成像。 | ||
搜索关键词: | 一种 大致 平面 一起 使用 双面 成像 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种与大致平面状的基片一起使用的双面成像系统,包括:气流传送装置,该气流传送装置用于以悬浮状态将大致平面状的基片至少传送到一个成像位置,所述平面状基片选自基片组:印刷线路板、平板显示器和互连装置基片;图像获取装置,该图像获取装置位于所述成像位置,用于在所述平面状基片由所述气流传送装置悬浮时使所述平面状基片双面成像。
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