[发明专利]调整射束的均匀性的离子束照射装置和方法

摘要

离子束照射装置具有：射束剖面监视器14，其在目标8的附近测量离子束4在y方向中的射束电流密度分布；可移动屏蔽板组18a、18b，它们分别具有在y方向中安置的以便在该目标的位置的上游侧上横跨离子束路径彼此相对的多个可移动屏蔽板16，该可移动屏蔽板可在x方向中相互独立地移动；屏蔽板驱动设备22a、22b，它们以相互独立的方式在x方向中往复驱动构成该组的可移动屏蔽板16；以及屏蔽板控制设备24，其基于由该监视器14获得的测量数据控制屏蔽板驱动设备22a、22b以便相对增加对应于所测量的y方向射束电流密度相对大的位置的相对可移动屏蔽板16阻挡离子束4的量，从而提高在y方向中的射束电流密度分布的均匀性。

主权项

1.一种离子束照射装置，其使用具有在与行进方向交叉的平面中的y方向中的大小大于垂直于y方向的x方向中的大小的形状的离子束照射目标，所述装置包括：射束剖面监视器，其在所述目标的位置附近测量该离子束在至少y方向中的射束电流密度分布；多个可移动屏蔽板，其安置在所述目标的位置的上游侧上的离子束路径的x方向中的至少一侧上，所述可移动屏蔽板可沿x方向相互独立地移动，并阻挡该离子束；屏蔽板驱动设备，其以相互独立的方式，沿x方向往复驱动所述多个可移动屏蔽板；以及屏蔽板控制设备，其基于由所述射束剖面监视器获得的测量信息控制所述屏蔽板驱动设备，且其执行下述的至少一个：对应于所测量到的y方向射束电流密度相对大的位置的所述可移动屏蔽板阻挡该离子束的量的相对增加；以及对应于所测量到的y方向射束电流密度的位置的所述可移动屏蔽板阻挡该离子束的量的相对减小，从而执行提高y方向射束电流密度分布的均匀性的控制。