[发明专利]氮化镓基发光二极管及其制造方法有效
申请号: | 200610167195.4 | 申请日: | 2006-12-28 |
公开(公告)号: | CN1996627A | 公开(公告)日: | 2007-07-11 |
发明(设计)人: | 全东珉;韩在镐;姜弼根 | 申请(专利权)人: | 三星电机株式会社 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李伟 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种GaN基LED,包括:基板;形成在基板上的n型GaN层;形成在n型GaN层的预定区域上的活性层;形成在活性层上的p型GaN层;形成在p型GaN层上的透明电极;形成在透明电极上的p电极;形成在其上未形成有活性层的n型GaN层上的n型电极;以及形成在透明电极与n型电极之间得到的结构上的保护膜,该保护膜由等离子体氧化的透明层构成。 | ||
搜索关键词: | 氮化 发光二极管 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种GaN基LED,包括:基板;n型GaN层,形成在所述基板上;活性层,形成在所述n型GaN层的预定区域上;p型GaN层,形成在所述活性层上;透明电极,形成在所述p型GaN层上;p电极,形成在所述透明电极上;n型电极,形成在其上未形成有所述活性层的所述n型GaN层上;以及保护膜,形成在所述透明电极与所述n型电极之间得到的结构上,所述保护膜由等离子体氧化的透明层构成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电机株式会社,未经三星电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610167195.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光固化的全氟聚醚用作微流体器件中的新材料
- 下一篇:制冷系统供给管接头