[发明专利]半导体器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610166739.5 申请日: 2006-12-07
公开(公告)号: CN1979860A 公开(公告)日: 2007-06-13
发明(设计)人: 渡濑和美;滨谷毅 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L21/822
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 沈昭坤
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明揭示一种半导体器件及其制造方法,通过在半导体衬底(11)的至少1个角部(16)设置与缓冲镀层膜(14)电连接的导电区(15-1),使组件封固树脂或缓冲镀层膜(14)表面积存的电荷利用导电通路流入到导电区(15-1),从而能降低组件封固树脂或缓冲镀层膜(14)表面积存的电荷密度,抑制放电。其结果,通过抑制放电,不对外部输入输出端子施加高压,IC电路不用说,连接IC电路的电路用金属布线也能防止熔断,还能防止层间绝缘膜(18)破坏。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种半导体器件,其特征在于,具有形成半导体集成电路和元件电极的半导体衬底;在所述半导体衬底上形成的保护绝缘膜;在所述半导体集成电路区的所述保护绝缘膜上形成的缓冲镀层膜;以及与所述缓冲镀层膜电连接的导电区。
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