[发明专利]以剥除法制作图案化膜层的方法无效
| 申请号： | 200610165953.9 | 申请日： | 2006-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN101201422A | 公开（公告）日： | 2008-06-18 |
| 发明（设计）人： | 格培文;官大双 | 申请（专利权）人： | 联诚光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/23 | 分类号： | G02B5/23;H01L21/02;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种以剥除法制作图案化膜层的方法。此方法是先在基板上形成图案化堆叠层，图案化堆叠层是由牺牲层与光致抗蚀剂层所构成，其中光致抗蚀剂层覆盖并延伸突出于上述牺牲层之外。随后，在图案化堆叠层上以及图案化堆叠层之中的间隙形成一膜层，此膜层的厚度小于牺牲层的厚度。其后，以剥除法移除光致抗蚀剂层以及光致抗蚀剂层上的膜层。之后，再移除牺牲层。 | ||
| 搜索关键词： | 剥除 法制 图案 化膜层 方法 | ||
【主权项】：
1.一种以剥除法制作图案化膜层的方法，包括：提供基板；在该基板上形成图案化堆叠层，该图案化堆叠层是由牺牲层与光致抗蚀剂层所构成，且该光致抗蚀剂层覆盖并延伸突出于该牺牲层之外；在该图案化堆叠层上以及该图案化堆叠层之中的间隙形成膜层，该膜层的厚度小于该牺牲层的厚度；以剥除法移除该光致抗蚀剂层以及该光致抗蚀剂层上的该膜层；以及移除该牺牲层。
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