[发明专利]一种掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法有效
| 申请号： | 200610161333.8 | 申请日： | 2006-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN1996055A | 公开（公告）日： | 2007-07-11 |
| 发明（设计）人： | 黄烽;王海千;李明;谢斌;侯建国;宋亦周;姜友松 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;C23C14/35;C23C14/54;C23C14/14 |
| 代理公司： | 合肥金安专利事务所 | 代理人： | 金惠贞 |
| 地址： | 230026*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明掺杂稳定化氧化锆的耐高温光学膜及其制备方法，特征是采用磁控反应溅射仪或自由基辅助溅射仪，由Y与Zr按摩尔比为10－50∶100或由Al与Zr按摩尔比为3.5－9∶10组成的混合靶材作为溅射源；所得到的由稳定化的氧化锆高折射率层和非晶SiO2低折射率层交替堆叠而成的多层膜，其中稳定化的氧化锆是掺Y2O3或Al2O3作稳定剂的ZrO2；若掺杂的是Y2O3，则Y2O3与ZrO2的摩尔比为5－25∶100；若掺杂的是Al2O3，则Al2O3和ZrO2的摩尔比为1.7－4.5∶10。该多层膜可用作光学薄膜滤波片、灯泡外层滤红外光的薄膜或在500－1000℃高温下进行光学测量用的薄膜器件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掺杂 稳定 氧化锆 耐高温 光学 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种掺杂稳定化氧化锆的光学膜，是由高折射率层和低折射率层交替堆叠而成的多层膜，其特征在于：所述高折射率层的材料为稳定化的氧化锆，所述低折射率层的材料为非晶SiO2；所述稳定化的氧化锆是掺Y2O3或Al2O3作稳定剂的ZrO2；若掺杂的是Y2O3，则Y2O3与ZrO2的摩尔比为5--25∶100；若掺杂的是Al2O3，则Al2O3和ZrO2的摩尔比为1.7-4.5∶10。
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