[发明专利]薄膜电容元件用组合物、绝缘膜、薄膜电容元件和电容器有效
| 申请号: | 200610160562.8 | 申请日: | 2002-08-26 |
| 公开(公告)号: | CN1974472A | 公开(公告)日: | 2007-06-06 |
| 发明(设计)人: | 坂下幸雄;舟洼浩 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
| 主分类号: | C04B35/00 | 分类号: | C04B35/00;H01B3/12;H01G4/33;C01G29/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孙秀武;赵苏林 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明是在基板(4)上依次形成下部电极(6)、电介质薄膜(8)和上部电极(10)的薄膜电容器(2)。电介质薄膜(8)由薄膜电容元件用组合物构成,该薄膜电容元件用组合物具有c轴相对于基板面垂直取向的铋层状化合物,该铋层状化合物用组成式:(Bi2O2)2+(Am-1BmO3m+1)2-或Bi2Am-1BmO3m+3表示,上述组成式中的符号m为偶数,符号A为选自Na、K、Pb、Ba、Sr、Ca和Bi的至少1种元素,符号B为选自Fe、Co、Cr、Ga、Ti、Nb、Ta、Sb、V、Mo和W的至少1种元素。电容率的温度特性优良,同时即使变薄也具有较高的电容率且损耗低,漏电特性优良,耐电压提高,表面平滑性也优良。 | ||
| 搜索关键词: | 薄膜 电容 元件 组合 绝缘 电容器 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜电容元件用组合物,具有c轴相对于基板面垂直取向的铋层状化合物,其特征在于,该铋层状化合物用组成式:(Bi2O2)2+(Am-1BmO3m+1)2-或Bi2Am-1BmO3m+3表示,上述组成式中的符号m为偶数,符号A为选自Na、K、Pb、Ba、Sr、Ca和Bi的至少1种元素,符号B为选自Fe、Co、Cr、Ga、Ti、Nb、Ta、Sb、V、Mo和W的至少1种元素。
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