[发明专利]非易失性半导体存储装置无效

专利信息
申请号: 200610154017.8 申请日: 2006-09-19
公开(公告)号: CN1941203A 公开(公告)日: 2007-04-04
发明(设计)人: 山本安卫;县泰宏;白滨政则;川崎利昭 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G11C16/04 分类号: G11C16/04;G11C11/56;H01L27/115;H01L27/105
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种非易失性半导体存储装置,在浮动栅极(32)中蓄积电荷、存储数据,其特征在于:具有共有浮动栅极(32)的多个MOS晶体管(24、25、26),写入时的耦合,使用PMOS晶体管(24);消去时的耦合,使用N型的耗尽型MOS(DMOS)(25)。在写入时,使用PMOS(24)产生的沟道反转容量的耦合,在消去时,使用N型DMOS(25)产生的耗尽电容的耦合,从而对于现有技术的3晶体管型非易失性存储器元件而言,能够不增加面积地使消去速度高速化。使可以混载到尖端标准CMOS工艺的LSI中的非易失性半导体存储装置,实现写入速度高速化。
搜索关键词: 非易失性 半导体 存储 装置
【主权项】:
1、一种非易失性半导体存储装置,在浮动栅极中蓄积电荷来存储数据,具有共有浮动栅极的多个MOS晶体管,其中用写入用的MOS晶体管,在写入时,使用沟道电容的耦合;用消去用的MOS晶体管,在消去时,使用耗尽电容的耦合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610154017.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top