[发明专利]非易失性半导体存储装置无效
| 申请号: | 200610154017.8 | 申请日: | 2006-09-19 |
| 公开(公告)号: | CN1941203A | 公开(公告)日: | 2007-04-04 |
| 发明(设计)人: | 山本安卫;县泰宏;白滨政则;川崎利昭 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号: | G11C16/04 | 分类号: | G11C16/04;G11C11/56;H01L27/115;H01L27/105 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 一种非易失性半导体存储装置,在浮动栅极(32)中蓄积电荷、存储数据,其特征在于:具有共有浮动栅极(32)的多个MOS晶体管(24、25、26),写入时的耦合,使用PMOS晶体管(24);消去时的耦合,使用N型的耗尽型MOS(DMOS)(25)。在写入时,使用PMOS(24)产生的沟道反转容量的耦合,在消去时,使用N型DMOS(25)产生的耗尽电容的耦合,从而对于现有技术的3晶体管型非易失性存储器元件而言,能够不增加面积地使消去速度高速化。使可以混载到尖端标准CMOS工艺的LSI中的非易失性半导体存储装置,实现写入速度高速化。 | ||
| 搜索关键词: | 非易失性 半导体 存储 装置 | ||
【主权项】:
1、一种非易失性半导体存储装置,在浮动栅极中蓄积电荷来存储数据,具有共有浮动栅极的多个MOS晶体管,其中用写入用的MOS晶体管,在写入时,使用沟道电容的耦合;用消去用的MOS晶体管,在消去时,使用耗尽电容的耦合。
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