[发明专利]屏气MR成像方法,MRI装置,屏气断层摄影成像方法,和断层摄影成像装置无效

专利信息
申请号: 200610153957.5 申请日: 2006-09-15
公开(公告)号: CN1931089A 公开(公告)日: 2007-03-21
发明(设计)人: 岩馆雄治;野崎敦;塚元铁二;椛泽宏之 申请(专利权)人: GE医疗系统环球技术有限公司
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055;G01R33/28;G01R33/48
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王小衡;刘杰
地址: 美国威*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 当进行其间具有呼吸间期的屏气成像的两轮或以上的操作时,本发明允许切片位置依照每轮操作中器官的位移。本发明包括:用于导航的图像采集步骤,其用于在屏气期间成像MR图像,该MR图像具有包括膈的成像区;膈位置获取步骤,其用于通过分析所述导航图像获取膈的位置;用于实际成像的图像采集步骤,其用于在屏气期间采集预期切片的MR图像;和用于释放呼吸的呼气间期步骤,其中所述步骤以该顺序反复地重复两次或以上。使第二或以后的期间的切片位置成为这样的位置,该位置被设置成使得第一轮操作的切片位置由第一轮操作的膈位置与第二轮或以后的操作的膈位置之间的差补偿。
搜索关键词: 屏气 mr 成像 方法 mri 装置 断层 摄影
【主权项】:
1.一种屏气MR成像方法,包括:用于导航的图像采集步骤,其用于当屏气时成像MR图像,该MR图像具有包括膈的成像区;膈位置获取步骤,其用于通过分析所述导航图像获取膈的位置;用于实际成像的图像采集步骤,其用于当屏气时成像预期切片的MR图像;和用于释放呼吸的呼气间期步骤,其中所述步骤以该顺序反复地重复两次或以上,并且其中使第二或以后的期间的切片位置成为这样的位置,该位置被设置成使得第一轮操作的切片位置由第一轮操作的膈位置与第二轮或以后的操作的膈位置之间的差补偿。
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