[发明专利]闪存器件及其制造方法无效
申请号: | 200610152302.6 | 申请日: | 2006-09-21 |
公开(公告)号: | CN1964054A | 公开(公告)日: | 2007-05-16 |
发明(设计)人: | 金基锡 | 申请(专利权)人: | 海力士半导体有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/8247 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 杨生平;杨红梅 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种闪存器件包括:按预定距离彼此间隔开地形成于半导体衬底上的区域处的沟槽;掩埋到沟槽中的掩埋浮栅;在掩埋浮栅之间形成的多个隔离结构;以及在掩埋浮栅上形成的电介质膜和控制栅。 | ||
搜索关键词: | 闪存 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种闪存器件,包括:第一和第二沟槽,形成在半导体衬底中,彼此间隔开;第一和第二浮栅,分别形成在所述第一和第二沟槽中;至少一个隔离结构,形成在所述第一与第二掩埋浮栅之间;第一和第二电介质膜,分别设置在所述第一和第二浮栅之上;以及第一和第二控制栅,分别形成在所述第一和第二电介质膜之上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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