[发明专利]成像装置有效
申请号: | 200610149401.9 | 申请日: | 2006-11-17 |
公开(公告)号: | CN1967403A | 公开(公告)日: | 2007-05-23 |
发明(设计)人: | 出原良;喜多信彦;近藤和芳;冈野正;萩原元太;多田薰 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04;G03G15/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王冉;王景刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种成像装置。在该成像装置中,感光器在其环形表面上承载潜像。光学写入单元在工作位置和待用位置之间移动,在所述工作位置处执行潜像在所述感光器的环形表面上的写入,而在待用位置处不执行写入。显影装置对在感光器上所承载的潜像进行显影。基准位置构件定位在用于使所述光学写入单元定位的基准位置。定位构件使所述光学写入单元定位。偏压螺旋弹簧对所述基准位置构件偏压,以使得基准位置构件与所述定位构件接触。 | ||
搜索关键词: | 成像 装置 | ||
【主权项】:
1、一种成像装置,其包括:潜像承载构件,该潜像承载构件在其表面上承载潜像;潜像写入单元,其在用于将潜像写入在所述潜像承载构件的表面上的工作位置与待用位置之间移动;显影单元,该显影单元将承载在所述潜像承载构件的表面上的潜像显影;基准位置构件,其定位在用于将所述潜像写入单元定位的基准位置处;定位构件,其确定所述潜像写入单元在工作位置处的位置;以及偏压构件,其对所述基准位置构件进行偏压,以使得所述基准位置构件与定位构件接触。
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