[发明专利]吸附装置无效
| 申请号： | 200610148474.6 | 申请日： | 2006-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN1963620A | 公开（公告）日： | 2007-05-16 |
| 发明（设计）人： | 许朝钦 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 汤在彦 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种吸附装置，其包含一本体、一孔洞、多个环形沟槽与至少一线形沟槽，本体具有一第一侧面与一第二侧面；第一侧面上设有凹槽，第二侧面设有孔洞，而且孔洞贯穿凹槽；多个环形沟槽形成于第一侧面上，且每一环形沟槽与凹槽连通；线形沟槽以凹槽为起点呈放射状形成于第一侧面上，且线形沟槽均连通于凹槽与环形沟槽，而凹槽的深度比线形沟槽的深度深。如此可减少本发明吸附板状工件时的压损，以避免板状工件滑落而受损；更可避免承接搬运板状工件时所产生的刮痕或是静电放电的情形。 | ||
| 搜索关键词： | 吸附 装置 | ||
【主权项】：
1.一种吸附装置，其特征在于，该吸附装置包含：一本体，具有一第一侧面与背对于该第一侧面的一第二侧面；一凹槽，设于该第一侧面上；一孔洞，设于该第二侧面上，该孔洞贯穿该凹槽；多个环形沟槽，形成于该第一侧面上，且所述环形沟槽与该凹槽连通；以及至少一线形沟槽，是以该凹槽为起点呈放射状形成于该第一侧面上，且所述线形沟槽均连通于该凹槽与前述环形沟槽，该凹槽的深度比该线形沟槽的深度深。
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