[发明专利]用于气体离子化处理的方法和设备无效
| 申请号： | 200610142935.9 | 申请日： | 2006-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN101175363A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | 维贾伊·K·米恩 | 申请（专利权）人： | 维贾伊·K.米恩 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 杜日新 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于气体处理的电极组件，包括具有由内部壁至少部分地限定的内部区域的介质壳，内部区域充有形成等离子体的气体。第一导电体耦接于介质壳并且至少部分地伸入到内部区域内。在向第一导体施加电压时，在内部区域里形成导电等离子体。导电等离子体以大体上均匀的方式接触基本上所有的内部壁。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 气体 离子化 处理 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于气体处理的电极组件，包括：具有由内部壁至少部分限定的内部区域的介质壳；充有形成等离子体的气体的上述内部区域；与上述介质壳连接并且至少部分地伸入到上述内部区域内的第一导电体；其中在对上述第一导电体施加电压时，在上述内部区域内形成等离子的气体转变成导电等离子体；上述导电等离子体以大体均匀的方式接触基本上所有的上述内部壁。
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