[发明专利]用于表面分析的光谱仪及表面分析方法有效
| 申请号： | 200610142720.7 | 申请日： | 2006-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN1967224A | 公开（公告）日： | 2007-05-23 |
| 发明（设计）人： | 布赖恩·罗伯特·巴纳德 | 申请（专利权）人： | 萨默费舍科学股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/227 | 分类号： | G01N23/227;G01N23/22 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 党晓林;徐敏刚 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于表面分析的光谱仪(10)及表面分析方法。光谱仪(10)提供试样观察和与试样表面大体正交的二次带电粒子收集。收集腔室(22)包括：二次带电粒子透镜装置(20)，其用于使发出的粒子在下游方向上沿第一正交轴线(24)聚焦，由此限定带电粒子光学交叉位置(25)；光反射光学元件(50)，其位于所述透镜装置下游，并被设置成接收图像光(41)并使该光反射远离第二正交轴线(42)以提供所述表面的可观察图像。该光学元件(50)定位在交叉位置(25)处或附近，并包括贯穿其的开口(52)，从而使聚焦的粒子穿过该开口以进行下游光谱分析，且大体不会受到该光学元件的阻碍。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表面 分析 光谱仪 方法 | ||
【主权项】：
1、一种通过用一次粒子照射试样表面进行试样表面分析的光谱仪，该光谱仪包括：收集腔室，该收集腔室用于从所述试样表面接收二次带电粒子和图像光，该收集腔室具有在使用中与所述试样表面大体正交的第一轴线，该收集腔室包括：二次带电粒子透镜装置，该二次带电粒子透镜装置被设置成用于使所发出的二次带电粒子的至少一部分在下游方向上沿着所述第一轴线聚焦，并由此限定带电粒子光学交叉位置；以及光反射光学元件，该光反射光学元件定位在所述二次带电粒子透镜装置的下游并具有在使用中与所述试样表面大体正交的第二轴线，所述光学元件被设置成用于从所述试样表面接收图像光并且使该光反射而远离所述第二轴线，以提供所述试样表面的可观察图像，其中，所述光学元件定位在所述带电粒子光学交叉位置处或附近，并且该光学元件包括贯穿该光学元件的开口，从而所述被聚焦的二次带电粒子的至少一部分可穿过该开口以在该开口的下游进行光谱分析，而大体上不会被所述光学元件所阻碍。
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