[发明专利]成像设备及改进其显影性能的方法无效
| 申请号： | 200610135576.4 | 申请日： | 2006-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN1952804A | 公开（公告）日： | 2007-04-25 |
| 发明（设计）人： | 梁裕锡;金镇喆;慎重光 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/08 | 分类号： | G03G15/08;G03G15/16;G03G15/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平;杨梧 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种成像设备及改进其显影性能的方法。该成像设备包括：至少一个光电导介质，其上形成有静电潜像；至少一个显影装置，其用显影剂将形成在光电导介质上的静电潜像显影成可见的显影剂图像；和显影性能改进单元，用于控制所述光电导介质与所述显影装置中至少一个，以使用具有不均匀特性例如不均匀的单位质量库仑的显影剂周期性地形成补钉显影剂图像，然后清理并去除该补钉显影剂图像。因此，周期性地使用具有不均匀单位质量库仑的显影剂打印补钉显影剂图像，并将其去除，从而防止该显影剂用于期望的图像，进而防止期望图像在不均匀显影剂产生部分处的较差显影。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 设备 改进 显影 性能 方法 | ||
【主权项】：
1.一种成像设备，包括：至少一个光电导介质，其上形成有静电潜像；至少一个显影装置，其用显影剂将形成在所述光电导介质上的静电潜像显影成可见的显影剂图像；和显影性能改进单元，用于控制所述光电导介质与所述显影装置中至少一个，以使用具有不均匀特性的显影剂周期性地形成补钉显影剂图像，然后清理并去除所形成的补钉显影剂图像。
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