[发明专利]涂膜形成方法无效
| 申请号： | 200610127551.X | 申请日： | 2006-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN1931446A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | 山口和伸;升芳明 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/10;C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 雒运朴;徐谦 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种涂膜形成方法，该方法在对基板涂敷例如显影液、清洗液、SOG溶液及抗蚀剂等涂敷液时，可以降低涂敷开始点周边的涂膜凸起，并能降低涂膜整体的起伏。本发明利用在被涂物(1)表面之上相对移动的狭缝喷嘴(2)所提供的涂敷液，在被涂物(1)表面形成均匀的涂膜，在涂敷开始时，使狭缝喷嘴(2)的涂敷液排出口(2b)接近被涂物(1)表面，其次，通过驱动涂敷液送液泵(3)，使涂敷液排出口(2b)与被涂物(1)表面之间以涂敷液连接，接着，在将涂敷液的连接状态维持规定时间后，开始进行涂敷。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种涂膜形成方法，利用在被涂物表面之上相对移动的狭缝喷嘴所提供的涂敷液，在前述被涂物表面形成均匀的涂膜，该涂膜形成方法的特征在于，在涂敷开始时，使前述狭缝喷嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面，其次，通过驱动涂敷液送液泵，使前述涂敷液排出口与前述被涂物表面之间以涂敷液连接，接着，在将前述涂敷液的连接状态维持规定时间后，开始进行涂敷。
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