[发明专利]位置测量系统和光刻装置有效
| 申请号： | 200610126728.4 | 申请日： | 2006-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN1924708A | 公开（公告）日： | 2007-03-07 |
| 发明（设计）人： | W·O·普里尔;E·J·M·尤森;E·A·F·范德帕斯奇 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;黄力行 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明描述了用于测量目标位置的位置测量系统，该系统包括：第一增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距中第一间距步长的第一数量，其中所述第一数量等于第一整数值加第一小数部分，以及第二增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距中第二间距步长的第二数量，其中所述第二数量等于第二整数值加第二小数部分，其中所述位置测量系统构造和布置成根据第一数量和第二小数部分初始化第二增量测量单元。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 测量 系统 光刻 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于测量目标位置的位置测量系统，包括：第一增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距中第一间距步长的第一数量，其中所述第一数量等于第一整数值加第一小数部分，第二增量测量单元，用于测量在基准框架和目标之间的间距中第二间距步长的第二数量，其中所述第二数量等于第二整数值加第二小数部分，其中所述位置测量系统构造和布置成根据第一数量和第二小数部分初始化第二增量测量单元。
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