[发明专利]基板处理装置以及基板处理系统有效
| 申请号： | 200610126445.X | 申请日： | 2006-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN1924659A | 公开（公告）日： | 2007-03-07 |
| 发明（设计）人： | 盐野胜美;出口新悟 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够抑制盖体开闭动作中所必要的装置空间的基板处理装置。从盖体(62)气密地与腔室主体(61)接触的状态开始，使升降马达(107、127)工作，使盖体(62)稍微上升。其次，沿着高度不同地配置在处理腔室(60)的两侧部的导轨(201、202)，在水平方向滑动移动盖体(62)。在将盖体(62)滑动至偏离腔室主体(61)的位置后下降，在下降后的位置处转动盖体(62)。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 以及 系统 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，能够在处理腔室内处理基板，其特征在于，所述处理腔室包括：腔室主体；可自由装卸地设置在所述腔室主体上的盖体；和装卸所述盖体的开闭装置，其中，所述开闭装置在与向所述处理腔室搬送基板的方向正交的方向上使所述盖体滑动开闭。
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