[发明专利]成膜装置及喷嘴有效
| 申请号： | 200610125621.8 | 申请日： | 2006-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN1920096A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | 安井基博;明渡纯 | 申请（专利权）人： | 兄弟工业株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所 |
| 主分类号： | C23C24/04 | 分类号： | C23C24/04 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;郭国清 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的成膜装置包括：气溶胶产生部，将材料颗粒分散在载气中以产生气溶胶；喷嘴，内部设有供所述气溶胶流过的内部通路，该内部通路的一端构成用于接受所述气溶胶从所述气溶胶产生部的供给的供给口，另一端构成用于向被处理材料喷出所述气溶胶的喷出口；窄路，设在所述内部通路中且流路面积比其上游侧的流路面积窄；和冲撞部，设在所述窄路的下游侧且受到通过所述窄路的所述气溶胶流的冲撞，因此，凝集颗粒被粉碎，以微粒化的状态从喷嘴供给，可在被处理材料上形成薄的均匀的膜。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 喷嘴 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，包括：气溶胶产生部，将材料颗粒分散在载气中以产生气溶胶；喷嘴，内部设有供所述气溶胶流过的内部通路，该内部通路的一端构成用于接受所述气溶胶从所述气溶胶产生部的供给的供给口，另一端构成用于向被处理材料喷出所述气溶胶的喷出口；窄路，设在所述内部通路中且流路面积比其上游侧的流路面积窄；和冲撞部，设在所述窄路的下游侧且受到通过所述窄路的所述气溶胶流的冲撞。
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