[发明专利]具有介质平台的微致动器的制造方法无效
| 申请号： | 200610121480.2 | 申请日： | 2006-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN1988018A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | 朴弘植;洪承范;沈钟烨 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G11B9/00 | 分类号： | G11B9/00;G11B9/14;G12B21/20;H01F41/00;G01N13/10 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种包括介质平台的微致动器的制造方法，所述介质平台具有介质承载平台和用于驱动所述介质平台的线圈，所述线圈形成于所述介质平台与所述介质承载表面相对的表面上，所述方法包括：在第一基底的第一表面上形成凹槽；在第二基底的第一表面上形成线圈；接合所述第一基底的第一表面和所述第二基底的第一表面；在所述第二基底的第二表面上形成所述介质承载表面，所述介质承载表面与所述第二基底的第一表面相对。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 介质 平台 微致动器 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种包括介质平台的微致动器的制造方法，所述介质平台具有介质承载平台和用于驱动所述介质平台的线圈，所述线圈形成于所述介质平台与所述介质承载表面相对的表面上，所述方法包括：在第一基底的第一表面上形成凹槽；在第二基底的第一表面上形成线圈；接合所述第一基底的第一表面和所述第二基底的第一表面；在所述第二基底的第二表面上形成所述介质承载表面，所述介质承载表面与所述第二基底的第一表面相对。
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