[发明专利]掩膜版、掩膜版的版图设计方法和缺陷修复方法有效
| 申请号： | 200610118814.0 | 申请日： | 2006-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN101192007A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 卢子轩 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/14 | 分类号： | G03F7/14;G03F1/00;G06F17/50;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜版，包括对于曝光光线具有透光性的平板，所述平板上形成了对于曝光光线具有遮光性的可印刷的几何图形，所述几何图形中包括至少一个孤立图形，所述孤立图形在沿X轴和/或Y轴方向上，在缺陷检测范围内，没有其他几何图形或者只有周期性重复的几何图形，本发明的掩膜版采用了新的版图设计方法，在所述几何图形中的孤立图形的检测范围内设置了不会被印刷的附加图形，以确保在对该掩膜版进行缺陷修复时，其上各个位置的缺陷均能被定位并修复。采用本发明的掩膜版，可以降低制作掩膜版时的掩膜版报废及延迟交货风险。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 版图 设计 方法 缺陷 修复 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，包括对于曝光光线具有透光性的平板，所述平板上形成了对于曝光光线具有遮光性的可印刷的几何图形，所述几何图形中包括至少一个孤立图形，所述孤立图形在沿X轴和/或Y轴方向上，在缺陷检测范围内，没有其他几何图形或者只有周期性重复排列的几何图形，其特征在于：在所述孤立图形的缺陷检测范围内具有不会被印刷的附加图形。
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