[发明专利]用于光刻装置的对准系统及其级结合光栅系统有效
| 申请号： | 200610117228.4 | 申请日： | 2006-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN1936711A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | 徐荣伟;李铁军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027;G02B27/44 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于光刻装置的对准系统及其级结合光栅系统，该对准系统包括提供照明光源的光源模块；传输照明光源的光束，垂直照明晶片上周期性光学结构对准标记的照明模块；采用显微物镜收集对准标记的多级次衍射光，采用多色光分离系统实现多波长衍射光的分离，并利用级结合光栅系统使对准标记衍射频谱的正、负级次的频谱光斑对应重叠相干的成像模块；采用差动莫尔信号探测方法，测量多个波长、多个级次频谱光斑对应位置处光强或位相的变化，得到对准标记位置信息的探测模块。级结合光栅系统包括光栅、反射镜和棱镜，使对准标记衍射频谱的+1－+n级和－1－－n级相同级次的正、负级衍射光斑对应重叠相干。以提供较高的对准精度和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 装置 对准 系统 及其 结合 光栅 | ||
【主权项】：
1.用于光刻装置的对准系统，包括：光源模块、照明模块、成像模块、探测模块；所述的光源模块，提供用于对准系统的照明光源；所述的照明模块，传输照明光源的光束，垂直照明晶片上周期性光学结构的对准标记；其特征在于，所述的成像模块，采用显微物镜收集对准标记的多级次衍射光，并采用多色光分离系统实现多波长衍射光的分离，然后利用级结合光栅系统使对准标记衍射频谱的正、负级次的频谱光斑对应重叠相干；所述的探测模块，采用差动莫尔信号探测方法，通过测量多个波长、多个级次频谱光斑对应位置处的光强或位相的变化，得到对准标记的位置信息。
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