[发明专利]用于抛光多晶硅的化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200610116747.9 | 申请日： | 2006-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN101153206A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;王麟;杨春晓 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/302 |
| 代理公司： | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液，该抛光液包括研磨颗粒和水，其还包括一种或多种多元醇型非离子表面活性剂。本发明的抛光液是可以在碱性条件下较好地抛光多晶硅薄膜的新型的化学机械抛光液。并且还可以显著降低多晶硅的去除速率，调节多晶硅与二氧化硅的选择比，显著提高多晶硅的平坦化效率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 多晶 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1.一种用于抛光多晶硅的化学机械抛光液，该抛光液包括研磨颗粒和水，其特征在于：还包括一种或多种多元醇型非离子表面活性剂。
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