[发明专利]靶组合体以及具有该靶组合体的溅射装置有效
| 申请号： | 200610115520.2 | 申请日： | 2006-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN1916232A | 公开（公告）日： | 2007-02-21 |
| 发明（设计）人： | 大石祐一;小松孝;中村肇;新井真;清田淳也;谷典明 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种靶组合体，在利用通过接合材料接合靶和背板而构成的靶组合体进行溅射时，靶和背板的接合面也不会暴露于等离子体中，进而，可以防止诱发溅射时的异常放电。在本发明的靶组合体中，把具有规定形状的溅射用靶31a～31f与背板32a～32f的接合面的面积，设定得比靶的最大横截面积小。 | ||
| 搜索关键词： | 组合 以及 具有 溅射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种靶组合体，其特征在于，具有：有规定形状的溅射用靶，以及通过接合材料接合到该靶的溅射面的背面侧的背板；其中，所述背板与所述靶的接合面的面积设定得比靶的最大横截面积小。
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