[发明专利]防反射膜、偏光板和图像显示装置有效
| 申请号： | 200610108443.8 | 申请日： | 2006-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN1908700A | 公开（公告）日： | 2007-02-07 |
| 发明（设计）人： | 米山博之;野吕正树;冈本康裕 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;G02B5/30;G09F9/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 程大军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种防反射膜，其包括支撑物和通过涂布含有以下成分的涂料组合物制备的低折射率层：(A)含氟聚合物，其主链仅由碳原子制得并且含有至少一种含氟乙烯基单体聚合单元和至少一种含羟基乙烯基单体聚合单元，其中，假若该聚合物主链中没有聚硅氧烷结构，则含羟基乙烯基单体聚合单元的含量超过20摩尔％；(B)能够与羟基反应的交联剂；和(C)在一个分子中含有两个或多个(甲基)丙烯酰基的化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 偏光 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
1、一种防反射膜，其包括支撑物和通过涂布含有以下成分的涂料组合物制备的低折射率层：(A)含氟聚合物，其主链仅由碳原子制得并且其含有至少一种含氟乙烯基单体聚合单元和至少一种含羟基乙烯基单体聚合单元，其中，假若该聚合物主链中没有聚硅氧烷结构，则含羟基乙烯基单体聚合单元的含量超过20摩尔％；(B)能够与羟基反应的交联剂；和(C)在一个分子中含有两个或多个(甲基)丙烯酰基的化合物。
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