[发明专利]制造能够改善图像质量的显示器基板的掩模无效
申请号: | 200610106176.0 | 申请日: | 2006-07-20 |
公开(公告)号: | CN1904725A | 公开(公告)日: | 2007-01-31 |
发明(设计)人: | 金爀珍;朴旻昱;金仁雨 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G02F1/133 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种用于形成显示器基板的掩模,使用该掩模制造显示器基板的方法和显示器基板,其能够通过避免色斑和色移提高色泽复现性。所述掩模包括第一子掩模、第二子掩模、第一交叠部分和第二交叠部分。第一子掩模包括彩色标线,从而在显示器基板的第一有源区内形成彩色像素。第二子掩模包括彩色标线,从而在显示器基板的第二有源区内形成彩色像素。第一交叠部分位于与第二子掩模交叠的第一子掩模的部分上。以不同于第一子掩模的其余部分的密度排列第一交叠部分内的彩色标线。第二交叠部分位于与第一子掩模交叠的第二子掩模的部分上。以基本等于第一交叠部分的密度排列第二交叠部分内的彩色标线。因此,改善了图像显示质量。 | ||
搜索关键词: | 制造 能够 改善 图像 质量 显示器 | ||
【主权项】:
1.一种掩模,包括:第一子掩模,其包括多个彩色标线,从而在显示器基板的第一有源区内形成彩色像素;第二子掩模,其包括多个彩色标线,从而在所述显示器基板的第二有源区内形成彩色像素;与所述第二子掩模交叠的所述第一子掩模的第一交叠部分,所述第一交叠部分包括以不同于所述第一子掩模的其余部分的密度排列的多个彩色标线;以及与所述第一子掩模交叠的所述第二子掩模的第二交叠部分,所述第二交叠部分包括以基本等于所述第一交叠部分的密度排列的多个彩色标线。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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