[发明专利]有机抗反射涂料聚合物,抗反射涂料组合物及其制备方法

摘要

一种具有下式1的有机抗反射聚合物、其制备方法、一种含有所述有机抗反射聚合物的抗反射涂料组合物、和由其制得抗反射涂层的制备方法。该包含所公开聚合物的抗反射涂层消除了由晶片的下层光学性能和光刻胶的厚度变化所引起的驻波，防止了由于从下层衍射和反射的光引起的回射和CD变换。这些优点使得能够形成适用于64M、256M、1G、4G和16G DRAM半导体器件的稳定的超微图案，并提高生产产率。而且，还能控制K值并且增加疏水性，有助于形成EBR(流珠式除水)。

主权项

1.一种抗反射涂料组合物，包含下述的式1的化合物和下式2的化合物：式1其中，Ra至Rd各自为氢或甲基；Ra至Rd，和R1至R9各自选自-H、-OH、-OCOCH3、-COOH、-CH2OH，或者具有1至5个碳原子的烷基和具有1至5个碳原子的烷氧烷基；l、m和n各自代表选自1、2、3、4和5的一个整数；w、x、y和z各自代表约0.01-约0.99的摩尔分数；式2其中，R10和R11各自为C1-10的烷氧基；和R12为氢或甲基。