[发明专利]用于控制光学涂布器装置中的分散误差的设备无效
| 申请号： | 200610105579.3 | 申请日： | 2006-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN1899707A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | 李钟华;朴赞勋;全基铉 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/10 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 林宇清;谢丽娜 |
| 地址： | 韩国京畿道水*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 适用于光学涂布器装置使用的化学溶液分散设备。该设备包括：喷嘴，适于将化学溶液喷洒到晶片上、压力传感器，与喷嘴相关联，并且适于感应喷洒压力并生成对应于所感应的喷洒压力的压力值、以及控制器，适于接收压力值，将所接收的压力值与预设阈值压力值做比较，并且当所接收的压力值超过预设阀值压力值时生成互锁信号。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 控制 光学 涂布器 装置 中的 分散 误差 设备 | ||
【主权项】：
1.一种适用于光学涂布器装置使用的化学溶液分散设备，包括：喷嘴，适于将化学溶液喷洒到晶片上；压力传感器，与喷嘴相关联，并且适于感应喷洒压力并生成对应于所感应的喷洒压力的压力值；以及控制器，适于接收压力值，将所接收的压力值与预设阈值压力值做比较，并且当所接收的压力值超过预设阀值压力值时生成互锁信号。
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