[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200610100125.7 | 申请日： | 2006-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN1892438A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | N·R·坎帕;S·N·L·唐德斯;C·A·胡根达姆;N·坦凯特;S·舒勒波夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黄力行 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 构造成可干燥浸入式光刻装置中的表面的气刀被优化设计，以便通过保证在被干燥的表面上的液体膜中建立压力剃度来去除液体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，所述光刻投影装置设置成可通过液体将图案从图案形成装置投射到衬底上，所述光刻投影装置包括构造成可相对于待干燥的表面在70至85°之间的角度下将气体提供到所述表面上的气刀。
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