[发明专利]阵列式电子束蚀刻装置及蚀刻方法

摘要

一种具有碳纳米管电子发射源的阵列式电子束蚀刻装置及蚀刻方法，该装置的结构主要包括真空腔体、阴极板、阳极板及驱动单元，其中该阴极板及阳极板均设置于真空腔体中，该阴极板上具有多个独立构成的阴极单元，阳极板与阴极板对应平行设置，该阳极板用于设置待进行蚀刻的基材，最后驱动单元与阳极板及阴极板上的各阴极单元电连接，各独立的阴极单元通过驱动单元所提供的电场产生电子束以进行蚀刻，由此使得蚀刻工艺的精密度增加，同时具有该阴极单元可替换的优势。

主权项

1.一种阵列式电子束蚀刻装置，包括：真空腔体；阴极板，其设置于所述真空腔体中，所述阴极板上设有多个各自独立的阴极单元；阳极板，其设置于所述真空腔体中，且与所述阴极板对应平行设置，所述阳极板包括基板和蚀刻靶材，所述蚀刻靶材设置于所述基板内侧；驱动单元，其设置于所述真空腔体之外，且与所述阴极板上的各阴极单元及所述阳极板电连接。