[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 200610098549.4 申请日: 2006-07-06
公开(公告)号: CN1893077A 公开(公告)日: 2007-01-10
发明(设计)人: 进藤昭则;田垣昌利;栗田秀昭 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L23/485
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 余刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供可在凸起的下方设置半导体器件的高可靠性的半导体装置。该装置包括:半导体层(10),具有器件形成区(10A)和设于该器件形成区(10A)周围的器件分离区(20);形成于所述器件形成区(10A)内的器件(30);设于所述半导体层(10)上面的层间绝缘层(60);设于所述层间绝缘层(60)上面的电极垫(62);钝化层(70),具有位于所述电极垫(62)的上面的、使该电极垫(62)的至少一部分露出的开口(72);凸起(80),设于所述开口(72)处,平面形状为具有短边和长边的长方形,在俯视图上与所述器件(30)至少一部分重复,在所述半导体层(10)中,从所述凸起(80)的所述短边的垂直下方朝外侧及内侧的预定范围是器件禁止区(12)。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
1.一种半导体装置,包括:半导体层,具有器件形成区和设于所述器件形成区周围的器件分离区;形成于所述器件形成区内的器件;设于所述半导体层上面的层间绝缘层;设于所述层间绝缘层上面的电极垫;钝化层,位于所述电极垫的上面,具有使所述电极垫的至少一部分露出的开口;以及凸起,设于所述开口处,其平面形状为具有短边和长边的长方形,在俯视图上所述凸起与所述器件至少一部分重复,其中,在所述半导体层中,从所述凸起的所述短边的垂直下方朝外侧及内侧的预定范围是器件禁止区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610098549.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top