[发明专利]表征方法、表征处理操作的方法、以及装置制造方法有效
| 申请号： | 200610091304.9 | 申请日： | 2006-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN1892431A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | C·G·M·德莫尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;张志醒 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种系统，其中在晶片处理期间，衬底晶片的变形被监控。在一个实施例中，在每次曝光和处理操作之后，通过将多个参考标记的位置与数据库中的值相比较，测量衬底晶片中的失真。 | ||
| 搜索关键词： | 表征 方法 处理 操作 以及 装置 制造 | ||
【主权项】：
1.一种表征衬底的方法，所述方法包含：测量所述衬底上的位置，所述衬底上具有许多测量场并且每个场具有许多测量位置；至少基于测量场的数目、每个场的测量位置数目以及许多模型参数，计算估计方差；以及比较计算的估计方差和阈值量以此确定所述衬底的状态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610091304.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
