[发明专利]磁记录元件及磁记录元件的制造方法无效
| 申请号： | 200610091302.X | 申请日： | 2004-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN1866361A | 公开（公告）日： | 2006-11-22 |
| 发明（设计）人： | 前岛伸六;上野修一;长永隆志;黑岩丈晴 | 申请（专利权）人： | 株式会社瑞萨科技 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘宗杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 为了减小TMR元件和与其连接的导体的位置配合公差，通过采用使用了用来在平面上的负X方向侧使TMR元件1和金属片5的侧面对齐的X方向边界掩膜S11的光刻技术，对TMR元件1和金属片5整形。X方向边界掩膜S11具有直线形的边界，该边界与Y方向平行，且配置成与TMR元件1和金属片5中任何一个在平面上交叉。而且，在正X方向侧利用该边界将TMR元件1和金属片5覆盖。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录元件的制造方法，是制造磁记录元件和与上述磁记录元件连接的第1导体的方法，其特征在于：具有利用使用同一掩膜的光刻技术对上述磁记录元件和上述第1导体进行整形的整形工序。
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