[发明专利]高纯气体(电子气)中痕量气态杂质分析方法和仪器无效

专利信息
申请号: 200610090611.5 申请日: 2006-06-29
公开(公告)号: CN101097207A 公开(公告)日: 2008-01-02
发明(设计)人: 尹恩华 申请(专利权)人: 尹恩华
主分类号: G01N25/68 分类号: G01N25/68;G01N30/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083北京市海淀区东升乡*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种与传统制冷方法不同的测试高纯气体(电子气)中痕量水和与常规气相色谱仪中附加浓缩气体取样器(不同吸附剂)的高纯气体中痕量气态杂质的分析方法和装置。用这样的制冷方法配合降温速度的控制,可以把露点测试的灵敏度提高到-120℃以下(±2℃以下)。气相色谱仪中附加控温浓缩气体取样器的痕量气态杂质的分析方法和装置(包括色谱仪的反吹切割装置、不同检测器的选择),最高灵敏度达到0.1PPB。
搜索关键词: 高纯 气体 电子 痕量 气态 杂质 分析 方法 仪器
【主权项】:
1、一种与过去传统制冷方法不同的的测试气体中痕量水含量的露点方法和仪器。其特征在于用液氮直接套在与镜面连接的传冷棒上。
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