[发明专利]设计光罩布局与产生光罩图案的方法和系统

摘要

本发明是有关于一种设计光罩布局与产生光罩图案的方法和系统，此方法包括利用复数个像素来表示光罩布局，其中每一像素具有一光罩透明度系数。初始化一控制参数，并产生此光罩布局的一代表。此方法透过一成本函数和一波兹曼几率函数(Boltzmann Probability Function)来决定是否接受光罩布局的代表，其中成本函数与光罩布局和目标基材图案有关，而波兹曼几率函数与成本函数及控制参数有关。重复产生光罩布局的代表的步骤和决定光罩布局的代表的接受步骤，直至稳定光罩布局。根据退火程序减少此控制参数。重复产生光罩布局的代表的步骤、决定步骤、重做步骤、和减少控制参数的步骤，直至最佳化此光罩布局。

主权项

1、一种设计光罩布局与产生光罩图案的方法，其特征在于其包括以下步骤：利用复数个像素来表示该光罩布局，其中每一像素具有一光罩透明度系数，其中所有像素的透明度系数组合成一光罩系数向量以代表光罩图案或布局，其中该光罩透明度系数的值是选自于一代表光罩制作技术的光罩状态向量；以及利用一模拟退火法来最佳化该光罩图案，包括产生代表初始光罩布局的一初始光罩系数向量；初始化一控制参数；产生一资料矩阵；进行一决定步骤，以透过一成本函数以及一波兹曼机率函数来决定是否接受该光罩系数向量代表的光罩布局，其中该成本函数与光罩布局与目标基材图案有关，其中该波兹曼机率函数为该成本函数及控制参数的函数；重做产生新光罩系数向量的步骤以及决定步骤，直至稳定该光罩布局；根据一退火程序减少该控制参数；以及重复前述的产生新光罩系数向量步骤、决定步骤、重做步骤、以及减少控制参数的步骤，直至最佳化光罩系数向量，即最佳化光罩布局。