[发明专利]光束测量装置有效
| 申请号: | 200610088699.7 | 申请日: | 2006-06-01 |
| 公开(公告)号: | CN1877270A | 公开(公告)日: | 2006-12-13 |
| 发明(设计)人: | 葛宗涛;斋藤隆行;黑濑实;神田秀雄;荒川和久 | 申请(专利权)人: | 富士能株式会社 |
| 主分类号: | G01J9/02 | 分类号: | G01J9/02;G01B9/02 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李香兰 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供一种光束测量装置,该光束测量装置(1A)具备波前测量部(10A)和光斑特性测量部(10B),该波前测量部(10A)成为具有反射型波前整形单元(20)、光束分离/合成面(15)、反射板(17)和光程长调整机构的迈克逊型光学系统配置。通过使从光束分离/合成面经由反射面(17a)而返回到光束分离/合成面的第1光程长、与从光束分离/合成面经由反射型波前整形单元(20)而返回到光束分离/合成面的第2光程长大约相互一致,能够进行可干涉性低的光束的波前测量和光束的光斑特性测量这2种测量。从而,获得也能适应于可干涉性低的光束的波前测量、并且能够容易进行光学系统的调整和相移机构的设置的光束测量装置。 | ||
| 搜索关键词: | 光束 测量 装置 | ||
【主权项】:
1、一种光束测量装置,具有:被检/基准光束分离机构,其将成为测量对象的光束分离成被检光束和基准光束作成用光束;波前整形机构,对所述基准光束作成用光束进行波前整形,将其转换为基准光束;合成机构,将所述被检光束和所述基准光束相互合成来获得干涉光;和干涉条纹成像/摄像机构,通过获得的所述干涉光使携带有所述光束波前信息的干涉条纹成像并进行摄像;所述波前整形机构由反射型波前整形单元构成,该反射型波前整形单元具有:使所述基准光束作成用光束汇聚的汇聚透镜、和在该汇聚透镜的汇聚点所配置的微小反射衍射部,其对入射的所述基准光束作成用光束的一部分进行波前整形,转换为所述基准光束,并将该基准光束朝向所述被检/基准光束分离机构射出;所述被检/基准光束分离机构以及所述合成机构由光束分离/合成面构成,该光束分离/合成面不仅使与所述基准光束作成用光束分离后的所述被检光束入射到反射面,而且使从该反射面返回的所述被检光束与来自所述波前整形机构的所述基准光束合成;具备光程长调整机构,其至少在所述光束是可干涉性低的光束的情况下,使从所述光束分离/合成面经由所述反射面而返回到所述光束分离/合成面的第1光程长、与从所述光束分离/合成面经由所述反射型波前整形单元而返回到所述光束分离/合成面的第2光程长大约相互一致。
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