[发明专利]蚀刻量测量装置、蚀刻装置及蚀刻量测量方法有效
| 申请号： | 200610087963.5 | 申请日： | 2006-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN1877254A | 公开（公告）日： | 2006-12-13 |
| 发明（设计）人： | 久保田尚树;堀田哲广 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | G01B21/08 | 分类号： | G01B21/08;G01B21/18;C23F4/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻量测量装置50，在使用离子束26对衬底22进行蚀刻时，测量衬底22的蚀刻量。蚀刻量测量装置50具备，形成有用于导入离子束26的一部分26a的导入口58a的腔室58、收容在腔室58内且由离子束26的一部分26a蚀刻的被处理部件60、以及接收从被处理部件60产生的物质64同时检测所接收的物质64的质量的质量检测元件70。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻量测量装置，其特征在于：是在使用等离子体中的活性种蚀刻被处理物时，用于测量所述被处理物的蚀刻量的蚀刻量测量装置，具备形成有用于导入所述活性种的一部分的导入口的腔室、收容在所述腔室内且由所述活性种的一部分蚀刻的被处理部件、以及接收从所述被处理部件产生的物质，同时检测所接收的所述物质的质量的质量检测元件。
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