[发明专利]一种连续化学气相淀积的方法与装置

摘要

本发明连续化学气相淀积方法与装置，特征是经过预处理的衬底依次通过多个衔接在一起但系统参数各自独立控制的CVD反应室，在每个反应室中分别实现一个薄膜材料层的生长或进行一种热处理工艺过程，从而连续完成多层薄膜材料的淀积制备。各层薄膜的淀积参数独立控制，在不同淀积层淀积过程中不需要改变体系的反应参数，可以大大节省升降温过程中的操作时间，同时防止设备在多次的热循环过程中影响其使用寿命。不同层材料的生长室之间采用分隔器分隔，防止上反应室尾气影响下层的淀积；本发明可以实现在大面积衬底上连续性薄膜淀积制备，并大大提高了源物质和热能的使用效率，是一种节能、节材、简单易控的产业化方法设备。

主权项

1、一种连续化学气相淀积方法，包括向CVD反应室中注入气态或能汽化的液态或固态源化合物，在被加热的经过预处理的衬底表面生成固态淀积物，并排出尾气；其特征在于：所述衬底在源物质气体的流动方向上缓慢移动，依次通过多个衔接在一起但系统参数各自独立控制的CVD区域，在每个反应区域中分别实现一个薄膜材料层的生长或进行一种热处理工艺过程，从而连续完成多层薄膜材料的生长和制备。