[发明专利]液晶显示器下基板的制作方法有效
| 申请号： | 200610076371.3 | 申请日： | 2006-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN1834746A | 公开（公告）日： | 2006-09-20 |
| 发明（设计）人： | 洪孟逸 | 申请（专利权）人： | 广辉电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G03F7/20;G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 何春兰 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种液晶显示器下基板的制作方法，包括步骤：(a)于一基板的一第一表面上形成一图样化的第一金属层，一第一绝缘层，一图样化的第二金属层以及一第二绝缘层；(b)于第二绝缘层上形成一透明电极层与一负型光刻胶层；(c)自基板的一第二表面进行曝光；(d)利用一光罩遮蔽负型光刻胶层，并自第一表面进行曝光；以及(e)移除未反应的负型光刻胶，并进行刻蚀以形成一图样化的透明电极。本发明方法是利用背面曝光的方式，以第一金属层与第二金属层作为光罩，进行曝光，形成像素电极，且其寄生电容产生值在容许范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶显示器 下基板 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种液晶显示器下基板的制作方法，包括下列步骤：(a)于一基板的一第一表面上形成一图样化的第一金属层，一第一绝缘层，一图样化的第二金属层以及一第二绝缘层，其中该第一金属层为该第一绝缘层所覆盖，该第二金属层位于该第一绝缘层之上，且该第二金属层为该第二绝缘层所覆盖；(b)于该第二绝缘层上形成一透明电极层与一负型光刻胶层，其中该透明电极层是介于该第二绝缘层与该负型光刻胶层之间；(c)自该基板的一第二表面进行曝光；(d)利用一光罩遮蔽该负型光刻胶，并自该第一表面进行曝光；以及(e)移除未反应的该负型光刻胶，并进行刻蚀以形成一图样化的透明电极。
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